薄膜化技術 第３版

共立出版
和佐清孝　早川茂　

• 価格: 5,500円（本体5,000円＋税）
• 発行年月: 2002年06月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784320086135

内容情報

[BOOKデータベースより]

薄膜化技術はナノテクノロジーの基礎。思い通りのナノ材料・デバイスが薄膜化技術で作製できる。最新のデータとノウハウを増補。

第１部　薄膜とその応用（薄膜材料；薄膜の形成法と評価；スパッタプロセスにおける興味ある現象）
第２部　スパッタの基礎と応用（スパッタの基礎；スパッタ装置と動作特性；化合物薄膜とスパッタ蒸着；薄膜構造の精密制御とナノメータ材料）

[日販商品データベースより]

初版を発行してから20年、第2版を出版してから10年が経過した。初版出版後、薄膜はディスプレイやメモリーディスクなど半導体IC以外のエレクトロニクス分野にも重要視されてきた。第2版出版後の最近の10年を見ると、原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール材料、デバイス形成の要素技術であり、21世紀においてエレクトロニクスや産業技術分野でますます重要となることが分かってきた。この第3版においては、最近の薄膜技術を基礎科学的な視点から追加したもので、古くて新しい技術書である。